Meta臺灣專利公開公告達521件，光學與顯示技術成布局核心

截至2026年4月30日，Meta公司在臺灣已公開／公告的專利累計達521件。從年度趨勢來看，Meta在臺灣的專利活動並非平均分布，而是在近年出現明顯高峰，顯示其可能配合硬體裝置、沉浸式體驗與AI運算應用，加速在臺灣建立技術防線。

申請件數方面，2018年至2021年仍屬低量布局，年度申請大致維持在個位數至二十餘件之間；2022年則出現爆發式成長，申請件數衝上約321件，為觀察期間最高點。2023年申請量雖回落至約136件，但仍明顯高於早期水準。公開公告件數則呈現時間落差，2022年約88件，2023年大幅增至約374件，成為公開公告高峰；2024年仍有約56件公開公告，2025與2026年則降至低量。這種「申請先行、公開公告後至」的型態，符合專利審查與公開程序的時間差，也反映Meta在2022年前後可能集中提交一批關鍵技術申請。

從IPC分類觀察，Meta在臺灣的專利重心高度集中於光學與顯示相關技術。IPC 3階分類中，G02B以484件居首，遠高於第二名G06F的177件，顯示光學元件、光學系統或近眼顯示相關技術是最主要布局方向。其後依序包括H04N的112件、H04W與G06T各82件、G02F的61件、H10H的60件、H04L的59件，以及H01Q、B32B等分類，涵蓋影像處理、無線通訊、圖像運算、顯示材料與天線結構等領域。

進一步至IPC 4階分類，G02B 27以280件排名第一，明顯領先其他技術類別，代表Meta在光學系統中特別聚焦於特定光學裝置或顯示相關架構。G06F 3以95件位居第二，顯示資料處理與運算系統亦是重要支撐技術。G02B 6有80件、G02F 1有61件、H10H 20有47件，顯示Meta的布局不只停留在軟體或平台服務，而是深入至光學設計、顯示控制與元件結構層次。

IPC完整分類則更清楚揭示技術焦點。G02B 27/01以163件居冠，可能與頭戴式顯示器、近眼顯示或擴增實境光學系統高度相關；G06F 3/01以55件排名第二，涉及人機互動、輸入輸出介面或使用者控制技術。其他如G02B 27/02、G02B 27/28、G02B 27/44，以及G06T 19/00等分類，也指向虛擬影像、光學投影、視覺呈現與電腦圖形應用。

整體而言，Meta在臺灣的專利布局呈現「硬體化、光學化、沉浸式」特徵。雖然Meta以社群平台起家，但其臺灣專利組合顯示，該公司近年的技術競爭核心已大幅延伸至AR／VR、智慧眼鏡、近眼顯示、影像處理與互動介面。臺灣具備半導體、顯示器、光學元件與電子製造供應鏈優勢，Meta選擇在臺灣強化相關專利布局，可能不僅是保護市場，更是為未來穿戴式裝置與沉浸式運算生態系預先卡位。